[대가의 선택] 브렛 스탠리의 '솔브레인‘

브렛 스탠리는 벤저민 그레이엄의 내재가치 개념을 바탕으로 AIM 베이직 밸류 펀드를 운용했다. 스탠리는 2~3년의 보유기간 동안 50% 이상 상승할 가능성이 있는 주식을 매입했다. 그리고 주가가 내재가치를 넘어서거나, 리스크가 기대수익률 대비 커지면 주식을 매도했다.

스탠리는 인기 있는 투자 스타일을 쫓아다니는 것을 최악의 투자라고 말했다. 그는 가치투자가 현재 인기가 없는 스타일이더라도 좋은 패를 손에 쥐고 있기에 결국 성공하리라 믿었다.

브렛 스탠리의 '솔브레인'

브렛 스탠리는 자기자본이익률(ROE)이 10%를 넘고, 주가수익배수(PER)가 20배 미만인 회사를 선호했다. 또한, 영업활동현금흐름이 양수(+)면서 순이익보다 큰 회사를 투자 대상으로 고려했다.

솔브레인은 브렛 스탠리의 투자 기준을 만족하는 상장사 중 하나다. 지난 2분기 실적을 반영한 연환산(최근 4분기 합산) 기준 자기자본이익률(ROE)은 13.7%로 10%를 넘는다. 주가수익배수(PER)는 전일 종가 기준 10.6배로 20배보다 낮다. 또한, 영업활동현금흐름은 967억원으로 순이익 251억원보다 많다.

▷ 반도체, 디스플레이 및 2차 전지 공정용 소재업체

솔브레인은 반도체, 디스플레이 및 2차 전지 공정용 소재업체다. 현재 삼성전자, SK하이닉스, LG디스플레이 등 국내 반도체 및 디스플레이 제조사에 공정용 화학재료를 공급하고 있고, 삼성SDI 등 2차 전지 제조사에 관련 제품을 공급하고 있다. 1986년 설립됐고 코스닥 시장엔 2000년 1월 상장했다.

솔브레인이 생산하는 각종 공정용 소재는 반도체와 디스플레이패널 제조과정에서 소모품으로 사용된다. 이 때문에 주요 고객사의 가동률이 상승하면 수혜를 받는다. 지난 반기 기준 전체 매출액 중 반도체용 소재가 50%, 디스플레이용 소재가 39%, 2차 전지 등 기타 재료가 11%의 비중을 차지했다.

반도체 공정용 소재로는 HF, B.O.E(Buffered Oxide Etchant), CMP 슬러리(CMP Slurry), CVD/ALD 재료, 전해 이온수 장비 등을 생산하고 있다. HF와 B.O.E는 반도체 공정 중 산화막 제거 및 세척 공정에 사용되는 화학약품이다. CMP 슬러리는 반도체 박막 평탄화를 위한 연마 재료이고, CVD/ALD 재료는 박막증착공정에 사용되는 전극재료나 저유전체 등을 말한다. 전해 이온수 장비는 알칼리 이온수를 생성하며, 생성한 이온수는 반도체 세정 공정 등에 사용된다.

디스플레이 공정용 소재로는 식각액(Etchant), 씬 글라스(Thin Glass) 등을 생산한다. 식각액은 식각 공정에 사용되는 화학 약품으로, 식각 공정은 패턴을 형성하기 위해 금속 배선의 필요하지 않은 부분을 선택적으로 제거하는 공정이다. 씬 글라스는 화학적 방식(식각)으로 두께를 축소한 유리판을 뜻한다.

2차 전지용 소재는 전해액과 리드탭(Lead Tab) 등을 제조하고 있다. 전해액은 음극과 양극 사이의 원활한 이동을 유도하는 화학 혼합물이고, 리드탭은 전지에서 발생한 에너지를 디바이스로 전달하는 역할을 한다.

솔브레인은 2011년을 제외하고 지난 10년간 전반적으로 PER이 20배 이하의 수치를 보였다. 또한, 지난 1분기부터 연환산 기준 ROE가 10% 이상을 기록해 브렛 스탠리가 참고한 기준을 만족했다.



한편, 솔브레인은 지난 9월 말 화장품 제조업체인 제닉 지분을 인수한다고 공시했다. 증권업계는 제닉의 향후 실적이 개선될 것으로 전망하고 있으나, 시장은 그다지 긍정적이지 않은 반응을 보인 바 있다(관련기사 ▷ [즉시분석] 솔브레인, 제닉 지분 인수...내용과 배경은?). 지난 9월 24일 제닉 인수 공시 이후 솔브레인의 주가는 28일 오전 10시 15분 현재 4만650원으로 한 달 만에 23% 하락했다.